用离子源发出离子，经引出、加速、取焦，使其成为束状，用此离子束轰击置于高真空室中的靶，将溅射出的原子进行镀膜。氧气被引入腔体内，与金属气体重新氧化，从而实现氧化物薄膜。由于离子束溅射沉积过程所引入的高能过程生成一致性好，高密度，非晶结构，具有优良牢固度的膜层，从而带来了优良的环境稳定性和机械耐久性。IBS所生成的膜层粗糙度好，所带来的膜层散射损耗小。
相比于其他类型的沉积方式，由于沉积速率慢，控制精度高等特点，往往被用于生成高精度光谱要求的产品，例如GFF等。
但IBS的缺点在于其对蒸发材料有所限制，往往只能用于加工金属氧化物；以及加工成本较高。
